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EUV机在2015年商业化生产

发布时间:2021-01-20 17:49:04 阅读: 来源:滤膜厂家

ASML公司开发的技术用于半导体工业的高科技光刻机。该公司总部设在荷兰,生产设备,是用来转移到硅片上的电路图案。EUV或远紫外线光刻技术,以更好的方式生产的薄片。

长期以来希望使用短波长的光,使电路更便宜和更密集的芯片产业。根据IEEE频谱的详细报告,该公司已宣布其工作与极端的紫外线和相关目标,其EUV机将在2015年进行商业化生产足够明亮。

这是一个重要的预测,因为这是当年的机器将是需要的图案后,在10纳米节点的生成晶体管逻辑芯片的下一代。公告表明,该公司是在一个坚实的整理固有的复杂性,这需要复杂的光源EUV路径。那些熟悉的技术,干扰实现体积更小,速度更快的芯片制造商面临的最大问题之一,处理器一直缺乏一个适当的光源。的那一刻,业界正在做193纳米光刻技术。EUV技术的研究人员希望它会在时间作为一种替代技术,使电路更便宜和更密集的。

EUV机使用光绘制精细的特点,超越了193纳米光刻机的能力。问题是EUV机,这使得难以商业化的光源的亮度不足。调光器的光,每个晶片必须被暴露,并且使每个芯片所需的时间就越长。由于Hot?Hardware网站的乔尔·鲁斯卡所说,“我们已经达到了极限193nm的波长是小到足以腐蚀,即使使用浸没式光刻技术(芯片浸入水中)。”

ASML公司的目标是最终其机每小时生产125片薄片。按照这个速度,ASML预计需要250瓦的EUV光。据该公司介绍,很多EUV光生产的主要扭结已制定出公司更有信心一路光源亮度可以提升至250瓦。要确保这是一个合理的目标。

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